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  • GMD2000/4石墨烯水性漿料研磨分散機(jī)
    GMD2000/4石墨烯水性漿料研磨分散機(jī)

    石墨烯水性漿料研磨分散機(jī),石墨烯漿料分散機(jī),石墨烯油性漿料分散機(jī),石墨烯水性漿料分散機(jī),石墨烯漿料分散設(shè)備,石墨烯研磨分散設(shè)備

    更新日期:2024-10-06型號(hào):GMD2000/4
  • GMD2000油性石墨漿料研磨分散機(jī)
    GMD2000油性石墨漿料研磨分散機(jī)

    油性石墨漿料研磨分散機(jī),采用德國(guó)先進(jìn)的高速研磨分散技術(shù),通過超高轉(zhuǎn)速(高可達(dá)14000rpm)帶動(dòng)超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子(通常配GMD 8SF,定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3mm之間)使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流,在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊,破碎,研磨,分散,均質(zhì),從而得出超細(xì)的顆粒(當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑)。綜合以上幾點(diǎn)可以得出理想的石墨烯漿料。

    更新日期:2024-10-06型號(hào):GMD2000
  • GMD2000石墨烯研磨分散機(jī)
    GMD2000石墨烯研磨分散機(jī)

    石墨烯研磨分散機(jī)采用德國(guó)先進(jìn)的機(jī)加工生產(chǎn)技術(shù),將石墨烯研磨分散的工作部件——磨頭定轉(zhuǎn)子加工精度達(dá)到極細(xì),磨頭間隙在0.2-0.7mm可調(diào),分散盤定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3mm之間。如果說定轉(zhuǎn)子間隙還可以通過精密的機(jī)械加工舍不得來達(dá)到的話,那么來保證設(shè)備高轉(zhuǎn)速的機(jī)械密封就不是那么容易的了,通常國(guó)產(chǎn)工業(yè)型機(jī)械密封一般只能承受3000rpm的轉(zhuǎn)速,如果轉(zhuǎn)速硬性提高,會(huì)有損壞機(jī)封的風(fēng)險(xiǎn).

    更新日期:2024-10-06型號(hào):GMD2000
  • 石墨烯研磨分散機(jī)
    石墨烯研磨分散機(jī)

    石墨烯研磨分散機(jī)$n石墨烯目前是世上Z薄卻也是Z堅(jiān)硬的納米材料,為世上電阻率Z小的材料。因?yàn)樗碾娮杪蕵O低,電子遷移的速度極快,因此被期待可用來發(fā)展出更薄、導(dǎo)電速度更快的新一代電子元件或晶體管。

    更新日期:2024-10-06型號(hào):
  • GMD2000/4石墨烯高速研磨機(jī)
    GMD2000/4石墨烯高速研磨機(jī)

    【 石墨烯高速研磨機(jī)的特點(diǎn)】 ① 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨 ② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。 ③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離 ④ 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。 ⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,

    更新日期:2024-10-06型號(hào):GMD2000/4
  • GMD2000/4石墨烯超細(xì)研磨分散機(jī)
    GMD2000/4石墨烯超細(xì)研磨分散機(jī)

    石墨烯超細(xì)研磨分散機(jī)GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SGN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級(jí)變跟為一級(jí),然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供

    更新日期:2024-10-06型號(hào):GMD2000/4
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