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納米膨脹石墨復(fù)合材料研磨分散機(jī)

納米膨脹石墨復(fù)合材料研磨分散機(jī)

產(chǎn)品型號: GMSD2000/4

所屬分類:研磨分散機(jī)

更新時間:2024-10-14

簡要描述:GM2000納米膨脹石墨復(fù)合材料研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時不停機(jī)運行。

詳細(xì)說明:

納米膨脹石墨復(fù)合材料研磨分散機(jī),石墨碳管復(fù)合材料研磨分散機(jī),高剪切膨脹石墨研磨分散機(jī),膨脹石墨高速研磨分散機(jī),膨脹石墨研磨分散機(jī),膨脹石墨分散設(shè)備,SGN研磨分散機(jī),德國進(jìn)口研磨分散機(jī)

 

GM2000納米膨脹石墨復(fù)合材料研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到低,保證機(jī)器連續(xù)24小時不停機(jī)運行。

膨脹石墨研磨分散機(jī)是利用剪切力(shear force)、摩擦力或沖擊力(impactforce)將粉體由大顆粒粉碎剝離成小顆粒。
分散:納米粉體被其所添加溶劑、助劑、分散劑、樹脂等包覆住,以便達(dá)到顆粒*被分離(separating)、潤濕(wetting)、分布(distributing)均勻及穩(wěn)定(stabilization)目的。

膨脹石墨(Expanded Graphite,簡稱EG)是由天然石墨鱗片經(jīng)插層、水洗、干燥、高溫膨化得到的一種疏松多孔的蠕蟲狀物質(zhì)。EG 除了具備天然石墨本身的耐冷熱、耐腐蝕、自潤滑等優(yōu)良性能以外,還具有天然石墨所沒有的柔軟、壓縮回彈性、吸附性、生態(tài)環(huán)境協(xié)調(diào)性、生物相容性、耐輻射性等特性。 早在19世紀(jì)60年代初,Brodie將天然石墨與硫酸和硝酸等化學(xué)試劑作用后加熱,發(fā)現(xiàn)了膨脹石墨,然而其應(yīng)用則在百年之后才開始。從此,眾多國家就相繼展開了膨脹石墨的研究和開發(fā),取得了重大的科研突破。

 

膨脹石墨遇高溫可瞬間體積膨脹150~300倍,由片狀變?yōu)槿湎x狀,從而結(jié)構(gòu)松散,多孔而彎曲,表面積擴(kuò)大、表面能提高、吸附鱗片石墨力增強(qiáng),蠕蟲狀石墨之間可自行嵌合,這樣增加了它的柔軟性、回彈性和可塑性。

 

GM2000系列的結(jié)構(gòu):由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

GM2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進(jìn)行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機(jī)座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;GM2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計,可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

(價格電議:葛    公司有樣機(jī)可供客戶實驗!)

 

的特點:

1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

 

2 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

 

設(shè)備其它參數(shù):

設(shè)備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機(jī)形式:普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件 PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì)SUS304 SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機(jī)表面處理:拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

 

從設(shè)備角度來分析,影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點:

1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細(xì)齒、超細(xì)齒、越細(xì)齒效果越好)

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機(jī),流量越小效果越好)

5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)

 

線速度的計算:

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的

 

膨脹石墨研磨分散機(jī)

研磨分散機(jī)

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW

 

GMSD 2000/4

400

14,000

41

4

DN25/DN15

GMSD 2000/5

1500

10,500

41

11

DN40/DN32

GMSD 2000/10

4000

72,200

41

22

DN80/DN65

GMSD 2000/20

10000

2,850

41

45

DN80/DN65

GMSD 2000/30

20000

1,420

41

90

DN150/DN125

GMSD 2000/50

60000

1,100

41

160

DN200/DN150

*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。

表中上限處理量是指介質(zhì)為的測定數(shù)據(jù)。



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