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硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機

硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機

產(chǎn)品型號: GMD2000

所屬分類:醫(yī)藥級研磨分散機

更新時間:2024-10-13

簡要描述:GMD2000硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

詳細說明:

硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機,硫酸頭孢喹肟混懸液研磨分散機,硫酸頭孢喹咪混懸液研磨分散機,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。

 

 

zui終產(chǎn)品: 混懸液

用途: 混懸液

工藝要求: 與藥物接觸部分為

原材料: 硫酸頭孢喹肟

液體(%): 三乙酸甘油酯、氫化蓖麻油、丙二醇

固體(%): 硫酸頭孢喹肟

密度(kg/m3): 1.05 溫度() 35

 

 將頭孢喹肟原料藥加入至乳化罐,加適量三乙酸甘油酯,經(jīng)研磨分散機進行分散均勻,加入丙二醇,混合均勻。

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1、因該機轉(zhuǎn)、定子間隙不可調(diào),是否適用于制備以以上附加劑的混懸劑?

2、該機粉碎以上附加劑,會不會造成定轉(zhuǎn)子接觸部分磨損?

3、該機能否實現(xiàn)細碎至通過顆粒直徑小于50um。其中D95<20um,D90<10um,D80<5um目的?

 

 

細化作用一般來說要強于均質(zhì)機,但它對物料的適應(yīng)能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于均質(zhì)機的前道或者用于高粘度的場合。 

研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

 

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應(yīng)用。

 

GMD2000系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

 

硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機的型號

 

研磨分散機

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW

 

GMD 2000/4

300

9,000

23

2.2

DN25/DN15

GMD 2000/5

3000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

 GMD 2000/10

8000

4,200

23

22

DN80/DN65

GMD 2000/20

20000

2,850

23

37

DN80/DN65

GMD 2000/30

40000

1,420

23

55

DN150/DN125

GMD2000/50

120000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

 

 

信息來源:www.sgnprocess。。cn



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